AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料，用于用于物理鍍膜中的濺鍍，除了AZO靶材，還有金屬靶材和陶瓷靶材。陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)較好大長(zhǎng)度4000mm，單節(jié)較好大長(zhǎng)度250mmm，厚度:可根據(jù)客戶要求定做陶瓷平面靶材采用燒結(jié)及綁定工藝可生產(chǎn)較好大長(zhǎng)度600mm，較好大寬度400mmm，較好大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。
相對(duì)密度>99%
純度:>99.99%～99.999%，
應(yīng)用領(lǐng)域：薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、觸摸屏工業(yè)、顯示器工業(yè)、光學(xué)鍍膜工業(yè)、低輻射鍍膜玻璃工業(yè)。
氧化鋅摻鋁（AZO）薄膜因無(wú)害、成本低、Zn 源材料豐富以及在 H 等離子體中性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)得到廣泛的研究，尤其作為前電較應(yīng)用在薄膜太陽(yáng)能電池中 。在AZO薄膜的制備方法中，磁控濺射技術(shù)具有成膜致密和成本低等優(yōu)點(diǎn)，其中以直流和射頻磁控濺射研究較好廣。
目前大部分國(guó)家高等靶材市場(chǎng)主要分布于韓國(guó)、寶島、中國(guó)、日本，主要供應(yīng)商在日本，韓國(guó)。中國(guó)市場(chǎng)目前年消耗ITO靶材約300噸，而且處于快速增長(zhǎng)之中未來靶材產(chǎn)品會(huì)廣泛應(yīng)用于計(jì)算機(jī)硬盤、半導(dǎo)體、TFT平面顯示、手機(jī)、低輻射玻璃等行業(yè)。
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