濺射鈦靶材的主要應用領域

濺射鈦靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

1、信息存儲產業

隨著IT產業的不斷發展，世界對記錄介質的需求量越來越大，記錄介質用靶材研究與生產成為一大熱點。在信息存儲產業中，使用濺射靶材制備的相關薄膜產品有硬盤、磁頭、光盤等。制造這些數據存儲產品，需要使用具有特殊結晶性與特殊成分的高品質靶材，常用的有鈷、鉻、碳、鎳、鐵、貴金屬、稀有金屬、介質材料等。

2、集成電路產業

集成電路用鈦靶材在全球靶材市場占較大份額，其濺射產品主要包括電極互連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光盤掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等。其中薄膜電阻器是薄膜混合集成電路中用量最多的元件，而電阻薄膜用靶材中Ni-Cr合金的用量很大。

3、平面顯示器產業

平面顯示器包括：(1) 液晶顯示(LCD) ； (2) 等離子體顯示器(PDP) ； (3) 場致發光顯示器(E-L) ； (4)場發射顯示器(FED) 。目前， 在平面顯示器市場中以液晶顯示為主，廣泛應用于筆記本電腦顯示器、臺式電腦監視器到高清晰電視。目前，平面顯示器的薄膜多采用濺射成形。濺射用靶材主要有In₂O₃、SnO₂、MgO、W、Mo、Ni、Cu、Cr等。

4、濺射靶材在其他領域中的應用

1）大面積玻璃鍍膜

磁控濺射是目前制備幕墻玻璃的優良的方法，但射頻電源，濺射靶的材料和制作價格都十分昂貴，磁控濺射的成本是比較高的。

玻璃鍍膜采用的靶材：

A）純金屬。如金，銀，鉭，鈦，銅，鉻，鎳，錫，硅。

B）金屬合金。如鋼錫、鈷鉻，鎳鉻，不銹鋼，特殊

C）電導和絕緣氧化物。如ITO， SiO₂。

鍍膜過程：將惰性氣體注入真空室，在電場中被電離后產生帶正電荷的離子和自由電子。正離子被吸收至裝在負電位，陰極頂面的靶上。氣體、離子將靶材表面上的原子碰出來，使這些原子凝聚在玻璃基片上。采用磁場捕集自由電子可得到高的濺射率，被捕集的自由電子周而復始地產生高離子密度，從而得到較高的膜層沉積速率。磁控增強陰極的濺射率較常規二極濺射高5至10倍，內裝有水冷卻回路保證均勻地降低靶材的溫度。純金屬和合金在惰性氣體的氣氛中濺射；純金屬靶可在反應性氣體的氣氛中濺射。

2）汽車后視鏡鍍膜

汽車后視鏡主要用靶材：Cr、A 1、SnO， (反應性) 、TiO₂， 通常的后視鏡是采用蒸發鍍鋁工藝， 由于鋁膜反射率較高，約87%，吸收很小，因此反射光很耀眼。而采用磁控濺射法鍍制特殊膜系，反射率比鋁膜稍低且在可見光范圍內對紅色光有一定的吸收，給予鏡子一種誘人的“霧藍色”，其反射光顯得非常柔和清晰。

相關鏈接