鈮濺射靶材的應(yīng)用領(lǐng)域及工藝概述

產(chǎn)品名稱：鈮濺射靶材

材料：純鈮，鈮合金

牌號(hào)：R04200，R04210，Nb1，Nb2，NbZr1

密度：≥8.6g/cm³

熔點(diǎn)：2468℃。

真空電子束熔煉工藝生產(chǎn)鈮板，是先將未鍛壓過的鈮條通過真空電子束熔煉爐熔煉成鈮錠，通常分單次熔煉和多次熔煉，我們通常采用兩次熔煉的鈮錠，根據(jù)產(chǎn)品要求的不同我們可以進(jìn)行兩次以上的熔煉。

應(yīng)用：

鈮靶材廣泛應(yīng)用于超導(dǎo)行業(yè)、用于生產(chǎn)鈮箔、高溫爐內(nèi)隔熱屏、用于生產(chǎn)鈮焊管、用于生產(chǎn)人體植入件。

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